仪器名称： Alcatel深硅刻蚀系统

仪器类型： 刻蚀设备

应用领域： 硅深槽刻蚀。

技术指标：

适用于4英寸及以下尺寸的硅片刻蚀；使用气体有：SF6，C4F8，O2；掩膜材料可以是光刻胶和氧化硅；刻蚀深宽比20：1以内；同时兼有常温BOSCH工艺和低温CRYO工艺。

仪器品牌： 阿尔卡特

仪器型号： AMS200 

仪器厂家： ALCATEL

仪器设备所属平台： 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台

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